Ultivo 三重四極桿液質(zhì)聯(lián)用系統(tǒng)是一款可疊放的三重四極桿液質(zhì)聯(lián)用系統(tǒng)，通過將 MS 融入 LC 堆棧中，縮小 MS 占地面積。

Ultivo 三重四極桿液質(zhì)聯(lián)用系統(tǒng)是一款革命性的 LC/TQ 產(chǎn)品，可提供大型同類系統(tǒng)的性能，但是體積僅為后者的幾分之一。

Vortex Collision Cell 渦流碰撞室、Cyclone Ion Guide 氣旋離子導(dǎo)軌和 VacShield 真空盾等創(chuàng)新技術(shù)可為用戶提供優(yōu)異的靈敏度、穩(wěn)定性、可靠性和性能，以應(yīng)對(duì)高通量樣品分析中日復(fù)一日的挑戰(zhàn)。現(xiàn)在，通過添加僅支持 ESI 的型號(hào)，以及可幫助您滿足 21 CFR Part 11 法規(guī)要求的功能，Ultivo LC/TQ 不斷重塑人們對(duì)質(zhì)譜儀的想象，證明了小巧體積同樣可以提供毫不打折的高性能。

特性：

同類 LC/TQ 產(chǎn)品中體積小，性價(jià)比高，從而降低成本，快速實(shí)現(xiàn)投資回報(bào)

• 多種離子源配置可供選擇，包括安捷倫噴射流和傳統(tǒng) ESI

• 使用 VacShield 真空盾，在進(jìn)行離子導(dǎo)入系統(tǒng)維護(hù)時(shí)無需放空系統(tǒng)，可大程度縮短儀器維護(hù)停機(jī)時(shí)間，提升實(shí)驗(yàn)室效率

• Cyclone Ion Guide 氣旋離子導(dǎo)軌可壓縮離子束而不造成信號(hào)損失，從而提高離子傳輸效率并改善數(shù)據(jù)質(zhì)量

• Vortex Collision Cell 渦流碰撞室可在池內(nèi)實(shí)現(xiàn)離子的高效解離，改善離子聚焦和傳輸，在離子對(duì)之間快速清洗碰撞池，從而每秒能采集更多 MRM、實(shí)現(xiàn)零交叉污染，以及通過去除背景噪音提高結(jié)果的可靠性

• 利用觸發(fā)式多反應(yīng)監(jiān)測(cè) (tMRM) 進(jìn)行篩查、確認(rèn)和定量，該功能將快速、靈敏的 MRM 定量分析與產(chǎn)物離子譜圖生成相結(jié)合，用于化合物篩查和確認(rèn)

• 直觀的?Quant-My-Way?軟件和 MassHunter Productivity App 可將分析效率提升多達(dá) 40%，并且僅需少量的操作人員培訓(xùn)，可縮短數(shù)據(jù)審查時(shí)間，簡(jiǎn)化報(bào)告生成

• 增強(qiáng)型早期維護(hù)反饋 (EMF) 功能可實(shí)現(xiàn)智能的自我感知型診斷，從而大程度延長(zhǎng)正常運(yùn)行時(shí)間，有效降低維護(hù)成本

• 內(nèi)置技術(shù)控制功能與程序控制相結(jié)合可確保數(shù)據(jù)安全并控制訪問，幫助您遵循 US FDA 21 CFR Part 11、歐盟附錄 11 及類似的國(guó)家電子記錄法規(guī)的要求。

  
  

  
  

  性能指標(biāo)：

  IDL 靈敏度
  MRM 速率
  尺寸（寬 x 深 x 高）
  掃描速度
  最短 MRM 駐留時(shí)間
  極性切換速度
  碰撞池清洗時(shí)間
  離子源
  質(zhì)量數(shù)范圍

• m/z 5-1400

• ESI

• AJS

• APCI

• <1 ms

• <20 ms

• 1 ms

• 15000 Da/s

• 32 cm x 88 cm x 39.5 cm

• 500 MRM transitions/s

• <柱上進(jìn)樣 20 fg ，< 20 ppt